On the argon and oxygen incorporation into SiOx through ion implantation during reactive plasma magnetron sputter deposition: Fid-Bau Portal

On the argon and oxygen incorporation into SiOx through ion implantation during reactive plasma magnetron sputter deposition

van Hattum, E. D. / Boltje, D. B. / Palmero, A. / Arnoldbik, W. M. / Rudolph, H. / Habraken, F. H.

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Titel:

On the argon and oxygen incorporation into SiOx through ion implantation during reactive plasma magnetron sputter deposition

Beteiligte:

van Hattum, E. D. (Autor:in) / Boltje, D. B. (Autor:in) / Palmero, A. (Autor:in) / Arnoldbik, W. M. (Autor:in) / Rudolph, H. (Autor:in) / Habraken, F. H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 3079-3084

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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