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    Titel:

    Doping of germanium by phosphorus implantation: Prediction of diffused profiles with simulation

    Beteiligte:

    Koffel, S. (Autor:in) / Scheiblin, P. (Autor:in) / Claverie, A. (Autor:in) / Mazzocchi, V. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 154-155 ; 60-63

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2008

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0921-5107

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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