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Boron out-diffusion mechanism in oxide and nitride CMOS sidewall spacer: Impact of the materials properties

Pelletier, B. / Juhel, M. / Trouiller, C. / Beucher, D. / Autran, J. L. / Morin, P.

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Titel:

Boron out-diffusion mechanism in oxide and nitride CMOS sidewall spacer: Impact of the materials properties

Beteiligte:

Pelletier, B. (Autor:in) / Juhel, M. (Autor:in) / Trouiller, C. (Autor:in) / Beucher, D. (Autor:in) / Autran, J. L. (Autor:in) / Morin, P. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 154-155 ; 252-255

Erscheinungsdatum:

01.01.2008

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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