Structural properties of Al2O3 dielectrics grown on TiN metal substrates by atomic layer deposition: Fid-Bau Portal

Structural properties of Al2O3 dielectrics grown on TiN metal substrates by atomic layer deposition

Hsieh, C. I. / Pan, T. M. / Lin, J. C. / Peng, Y. B. / Huang, T. Y. / Wu, C. R. / Shih, S.

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Titel:

Structural properties of Al2O3 dielectrics grown on TiN metal substrates by atomic layer deposition

Beteiligte:

Hsieh, C. I. (Autor:in) / Pan, T. M. (Autor:in) / Lin, J. C. (Autor:in) / Peng, Y. B. (Autor:in) / Huang, T. Y. (Autor:in) / Wu, C. R. (Autor:in) / Shih, S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 3769-3772

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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