Impact of Nitridation on Negative and Positive Charge Buildup in SiC Gate Oxides: Fid-Bau Portal

Impact of Nitridation on Negative and Positive Charge Buildup in SiC Gate Oxides

Rozen, J. / Dhar, S. / Wang, S.W. / Afanas ev, V.V. / Pantelides, S.T. / Williams, J.R. / Feldman, L.C.

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Titel:

Impact of Nitridation on Negative and Positive Charge Buildup in SiC Gate Oxides

Beteiligte:

Rozen, J. (Autor:in) / Dhar, S. (Autor:in) / Wang, S.W. (Autor:in) / Afanas ev, V.V. (Autor:in) / Pantelides, S.T. (Autor:in) / Williams, J.R. (Autor:in) / Feldman, L.C. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 600/603 ; 803-806

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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