Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide: Fid-Bau Portal

Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Sano, Y. / Watanabe, M. / Kato, T. / Yamamura, K. / Mimura, H. / Yamauchi, K.

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Titel:

Temperature Dependence of Plasma Chemical Vaporization Machining of Silicon and Silicon Carbide

Beteiligte:

Sano, Y. (Autor:in) / Watanabe, M. (Autor:in) / Kato, T. (Autor:in) / Yamamura, K. (Autor:in) / Mimura, H. (Autor:in) / Yamauchi, K. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 600/603 ; 847

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

847 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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