Room-temperature deposition of transparent conducting Al-doped ZnO films by RF magnetron sputtering method: Fid-Bau Portal

Room-temperature deposition of transparent conducting Al-doped ZnO films by RF magnetron sputtering method

Yang, W. / Liu, Z. / Peng, D. L. / Zhang, F. / Huang, H. / Xie, Y. / Wu, Z.

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Titel:

Room-temperature deposition of transparent conducting Al-doped ZnO films by RF magnetron sputtering method

Beteiligte:

Yang, W. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Peng, D. L. (Autor:in) / Zhang, F. (Autor:in) / Huang, H. (Autor:in) / Xie, Y. (Autor:in) / Wu, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 5669-5673

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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