Structural and mechanical characteristics of (103) AlN thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering: Fid-Bau Portal

Structural and mechanical characteristics of (103) AlN thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering

Yang, P. F. / Jian, S. R. / Wu, S. / Lai, Y. S. / Wang, C. T. / Chen, R. S.

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Titel:

Structural and mechanical characteristics of (103) AlN thin films prepared by radio frequency magnetron sputtering

Beteiligte:

Yang, P. F. (Autor:in) / Jian, S. R. (Autor:in) / Wu, S. (Autor:in) / Lai, Y. S. (Autor:in) / Wang, C. T. (Autor:in) / Chen, R. S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 5984-5988

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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