Morphology control and electron field emission properties of high-ordered Si nanoarrays fabricated by modified nanosphere lithography: Fid-Bau Portal

Morphology control and electron field emission properties of high-ordered Si nanoarrays fabricated by modified nanosphere lithography

Xu, L. / Li, W. / Xu, J. / Zhou, J. / Wu, L. / Zhang, X. G. / Ma, Z. / Chen, K.

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Titel:

Morphology control and electron field emission properties of high-ordered Si nanoarrays fabricated by modified nanosphere lithography

Beteiligte:

Xu, L. (Autor:in) / Li, W. (Autor:in) / Xu, J. (Autor:in) / Zhou, J. (Autor:in) / Wu, L. (Autor:in) / Zhang, X. G. (Autor:in) / Ma, Z. (Autor:in) / Chen, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 5414-5417

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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