Surface passivation at low temperature of p- and n-type silicon wafers using a double layer a-Si:H/SiNx:H: Fid-Bau Portal

Surface passivation at low temperature of p- and n-type silicon wafers using a double layer a-Si:H/SiNx:H

Focsa, A. / Slaoui, A. / Charifi, H. / Stoquert, J. P. / Roques, S.

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Titel:

Surface passivation at low temperature of p- and n-type silicon wafers using a double layer a-Si:H/SiNx:H

Beteiligte:

Focsa, A. (Autor:in) / Slaoui, A. (Autor:in) / Charifi, H. (Autor:in) / Stoquert, J. P. (Autor:in) / Roques, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 159-160 ; 242-247

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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