Thermal annealing of SiC thin films with varying stoichiometry: Fid-Bau Portal

Thermal annealing of SiC thin films with varying stoichiometry

Kuenle, M. / Janz, S. / Eibl, O. / Berthold, C. / Presser, V. / Nickel, K. G.

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Titel:

Thermal annealing of SiC thin films with varying stoichiometry

Beteiligte:

Kuenle, M. (Autor:in) / Janz, S. (Autor:in) / Eibl, O. (Autor:in) / Berthold, C. (Autor:in) / Presser, V. (Autor:in) / Nickel, K. G. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING B ADVANCED FUNCTIONAL SOLID STATE MATERIALS ; 159-160 ; 355-360

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0921-5107

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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