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Improving the stoichiometry of RF-sputtered amorphous alumina thin films by thermal annealing

Olarinoye, O. / Ogundare, F.

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Titel:

Improving the stoichiometry of RF-sputtered amorphous alumina thin films by thermal annealing

Beteiligte:

Olarinoye, O. (Autor:in) / Ogundare, F. (Autor:in)

Erschienen in:

International journal of materials research ; 106 ; 514-520

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

1862-5282

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 669.9

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