Influence of processing parameters on atmospheric pressure plasma etching of polyamide 6 films: Fid-Bau Portal

Influence of processing parameters on atmospheric pressure plasma etching of polyamide 6 films

Gao, Z. / Peng, S. / Sun, J. / Yao, L. / Qiu, Y.

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Titel:

Influence of processing parameters on atmospheric pressure plasma etching of polyamide 6 films

Beteiligte:

Gao, Z. (Autor:in) / Peng, S. (Autor:in) / Sun, J. (Autor:in) / Yao, L. (Autor:in) / Qiu, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 255 ; 7683-7688

Erscheinungsdatum:

01.01.2009

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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