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Influence of jet-to-substrate distance on plasma etching of polyamide 6 films with atmospheric pressure plasma

Gao, Z.

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Titel:

Influence of jet-to-substrate distance on plasma etching of polyamide 6 films with atmospheric pressure plasma

Beteiligte:

Gao, Z. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 2531-2535

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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