Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Challenges in Atomic-Scale Characterization of High-k Dielectrics and Metal Gate Electrodes for Advanced CMOS Gate Stacks

    Neue Suche nach: Zhu, X.
    Neue Suche nach: Zhu, J.-m.
    Neue Suche nach: Li, A.
    Neue Suche nach: Liu, Z.
    Neue Suche nach: Ming, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Challenges in Atomic-Scale Characterization of High-k Dielectrics and Metal Gate Electrodes for Advanced CMOS Gate Stacks

    Neue Suche nach: Zhu, X.
    Neue Suche nach: Zhu, J.-m.
    Neue Suche nach: Li, A.
    Neue Suche nach: Liu, Z.
    Neue Suche nach: Ming, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Challenges in Atomic-Scale Characterization of High-k Dielectrics and Metal Gate Electrodes for Advanced CMOS Gate Stacks

    Neue Suche nach: Zhu, X.
    Neue Suche nach: Zhu, J.-m.
    Neue Suche nach: Li, A.
    Neue Suche nach: Liu, Z.
    Neue Suche nach: Ming, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Challenges in Atomic-Scale Characterization of High-k Dielectrics and Metal Gate Electrodes for Advanced CMOS Gate Stacks

    Beteiligte:

    Zhu, X. (Autor:in) / Zhu, J.-m. (Autor:in) / Li, A. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Ming, N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE AND TECHNOLOGY -SHENYANG- ; 25 ; 289-313

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2009

    Format / Umfang:

    25 pages

    ISSN:

    1005-0302

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    High-k gate dielectrics

    British Library Online Contents | 2004

    Ru and RuO2 gate electrodes for advanced CMOS technology

    Frohlich, K. / Husekova, K. / Machajdik, D. et al. | British Library Online Contents | 2004

    Photoactive Gate Dielectrics

    Shen, Q. / Wang, L. / Liu, S. et al. | British Library Online Contents | 2010

    Materials Characterization of Alternative Gate Dielectrics

    Busch, B. W. / Pluchery, O. / Chabal, Y. J. et al. | British Library Online Contents | 2002

    Electrical characterization of high-k gate dielectrics on semiconductors

    Ma, T. P. | British Library Online Contents | 2008

    Nach oben