Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik
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Nanoscale strain characterisation for ultimate CMOS and beyond
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Olsen, S.H. (Autor:in) / Dobrosz, P. (Autor:in) / Agaiby, R.M.B. (Autor:in) / Tsang, Y.L. (Autor:in) / Alatise, O. (Autor:in) / Bull, S.J. (Autor:in) / O Neill, A.G. (Autor:in) / Moselund, K.E. (Autor:in) / Ionescu, A.M. (Autor:in) / Majhi, P. (Autor:in)
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING ; 11 ; 271-278
01.01.2008
8 pages
Aufsatz (Zeitschrift)
Englisch
DDC:
621.38152
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