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    Titel:

    Formation of High Density Metal Silicide Nanodots on Ultrathin SiO~2 for Floating Gate Memory Application

    Beteiligte:

    Miyazaki, S. (Autor:in) / Ikeda, M. (Autor:in) / Makihara, K. (Autor:in) / Shimanoe, K. (Autor:in) / Matsumoto, R. (Autor:in) / Chandra, T. / Wanderka, N. / Reimers, W. / Ionescu, M.

    Erschienen in:

    THERMEC 2009 Part 2 6th International Conference on PROCESSING & MANUFACTURING OF ADVANCED MATERIALS, Berlin, Germany, August 25-29, 2009 ; 1725-1730

    MATERIALS SCIENCE FORUM ; 638/642

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0255-5476

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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