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    Titel:

    Sputter-Deposited ZrO~2 Gate Dielectric on High Mobility Epitaxial-GaAs/Ge Channel Material for Advanced CMOS Applications

    Beteiligte:

    Dalapati, G.K. (Autor:in) / Kumar, A. (Autor:in) / Wong, A.S.W. (Autor:in) / Kumar, M.K. (Autor:in) / Chia, C.K. (Autor:in) / Ho, G.W. (Autor:in) / Chi, D.Z. (Autor:in) / Wang, J. / Mathew, P. / Li, X.

    Erschienen in:

    Advances in Materials Processing IX ; 504-509

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 443

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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