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    Titel:

    Memory characteristics of Al2O3/LaAlO3/SiO2 multilayer structures with tunnel oxide thickness variation

    Beteiligte:

    Cha, S. Y. (Autor:in) / Kim, H. J. (Autor:in) / Choi, D. J. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 45 ; 5223-5227

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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