Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Polishing Mechanism of Glass Substrates with its Processing Characteristics by Cerium Oxide and Manganese Oxide Slurries

    Neue Suche nach: Yamazaki, T.
    Neue Suche nach: Doi, T.K.
    Neue Suche nach: Kurokawa, S.
    Neue Suche nach: Isayama, S.
    Neue Suche nach: Umezaki, Y.
    Neue Suche nach: Matsukawa, Y.
    Neue Suche nach: Kono, H.
    Neue Suche nach: Akagami, Y.
    Neue Suche nach: Yamaguchi, Y.
    Neue Suche nach: Kawase, Y.
    Neue Suche nach: Zhao, J.
    Neue Suche nach: Kunieda, M.
    Neue Suche nach: Yang, G.
    Neue Suche nach: Yuan, X.-M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Polishing Mechanism of Glass Substrates with its Processing Characteristics by Cerium Oxide and Manganese Oxide Slurries

    Neue Suche nach: Yamazaki, T.
    Neue Suche nach: Doi, T.K.
    Neue Suche nach: Kurokawa, S.
    Neue Suche nach: Isayama, S.
    Neue Suche nach: Umezaki, Y.
    Neue Suche nach: Matsukawa, Y.
    Neue Suche nach: Kono, H.
    Neue Suche nach: Akagami, Y.
    Neue Suche nach: Yamaguchi, Y.
    Neue Suche nach: Kawase, Y.
    Neue Suche nach: Zhao, J.
    Neue Suche nach: Kunieda, M.
    Neue Suche nach: Yang, G.
    Neue Suche nach: Yuan, X.-M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Polishing Mechanism of Glass Substrates with its Processing Characteristics by Cerium Oxide and Manganese Oxide Slurries

    Neue Suche nach: Yamazaki, T.
    Neue Suche nach: Doi, T.K.
    Neue Suche nach: Kurokawa, S.
    Neue Suche nach: Isayama, S.
    Neue Suche nach: Umezaki, Y.
    Neue Suche nach: Matsukawa, Y.
    Neue Suche nach: Kono, H.
    Neue Suche nach: Akagami, Y.
    Neue Suche nach: Yamaguchi, Y.
    Neue Suche nach: Kawase, Y.
    Neue Suche nach: Zhao, J.
    Neue Suche nach: Kunieda, M.
    Neue Suche nach: Yang, G.
    Neue Suche nach: Yuan, X.-M.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Polishing Mechanism of Glass Substrates with its Processing Characteristics by Cerium Oxide and Manganese Oxide Slurries

    Beteiligte:

    Yamazaki, T. (Autor:in) / Doi, T.K. (Autor:in) / Kurokawa, S. (Autor:in) / Isayama, S. (Autor:in) / Umezaki, Y. (Autor:in) / Matsukawa, Y. (Autor:in) / Kono, H. (Autor:in) / Akagami, Y. (Autor:in) / Yamaguchi, Y. (Autor:in) / Kawase, Y. (Autor:in)

    Erschienen in:

    Advances in Precision Engineering ; 141-145

    KEY ENGINEERING MATERIALS ; 447/448

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    1013-9826

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Chemical mechanical glass polishing with cerium oxide: Effect of selected physico-chemical characteristics on polishing efficiency

    Janoš, P. / Ederer, J. / Pilařová, V. r. et al. | British Library Online Contents | 2016

    Preparation method of nano cerium oxide polishing material

    ZHOU LIHU / WANG JIANJUN | Europäisches Patentamt | 2024

    Freier Zugriff

    Polishing Characteristics of CMP for Oxygen Free Copper with Manganese Oxide Abrasives

    Sato, R. / Ichida, Y. / Morimoto, Y. et al. | British Library Online Contents | 2009

    Polishing Characteristics of CMP for Oxygen Free Copper with Manganese Oxide Abrasives

    Sato, R. / Ichida, Y. / Morimoto, Y. et al. | British Library Conference Proceedings | 2009

    Luminescence of Epitaxial Cerium Oxide Films on Silicon Substrates

    Morshed, A. H. / Moussa, M. E. / El-Masry, N. et al. | British Library Online Contents | 1997

    Nach oben