Thin film deposition using a plasma source with a hot refractory anode vacuum arc: Fid-Bau Portal

Thin film deposition using a plasma source with a hot refractory anode vacuum arc

Beilis, I. I. / Koulik, Y. / Boxman, R. L. / Arbilly, D.

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Titel:

Thin film deposition using a plasma source with a hot refractory anode vacuum arc

Beteiligte:

Beilis, I. I. (Autor:in) / Koulik, Y. (Autor:in) / Boxman, R. L. (Autor:in) / Arbilly, D. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 45 ; 6325-6331

Erscheinungsdatum:

01.01.2010

Format / Umfang:

7 pages

ISSN:

0022-2461

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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