Influence of the Sputtering Pressure on the Properties of TAZO Films Prepared by DC Magnetron Sputtering: Fid-Bau Portal

Influence of the Sputtering Pressure on the Properties of TAZO Films Prepared by DC Magnetron Sputtering

Liu, H.F. / Yuan, C.K.

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Titel:

Influence of the Sputtering Pressure on the Properties of TAZO Films Prepared by DC Magnetron Sputtering

Beteiligte:

Liu, H.F. (Autor:in) / Yuan, C.K. (Autor:in) / Huang, Y.M.

Erschienen in:

Optoelectronic Materials ; 1045-1048

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 663/665

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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