Investigation on Preferential Chemical Etching of Dislocations in Sapphire: Fid-Bau Portal

Investigation on Preferential Chemical Etching of Dislocations in Sapphire

Xie, X.J. / Li, Y.Y. / Wang, M. / Liang, L.M. / Hao, Q.Y. / Liu, C.C.

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Titel:

Investigation on Preferential Chemical Etching of Dislocations in Sapphire

Beteiligte:

Xie, X.J. (Autor:in) / Li, Y.Y. (Autor:in) / Wang, M. (Autor:in) / Liang, L.M. (Autor:in) / Hao, Q.Y. (Autor:in) / Liu, C.C. (Autor:in) / Huang, Y.M.

Erschienen in:

Optoelectronic Materials ; 1318-1320

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 663/665

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

3 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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