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    Titel:

    The properties of plasma-enhanced atomic layer deposition (ALD) ZnO thin films and comparison with thermal ALD

    Beteiligte:

    Kim, D. (Autor:in) / Kang, H. (Autor:in) / Kim, J. M. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 3776-3779

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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