Growth characteristics and properties of Ga-doped ZnO (GZO) thin films grown by thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition: Fid-Bau Portal

Growth characteristics and properties of Ga-doped ZnO (GZO) thin films grown by thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition

Nam, T. / Lee, C. W. / Kim, H. J. / Kim, H.

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Titel:

Growth characteristics and properties of Ga-doped ZnO (GZO) thin films grown by thermal and plasma-enhanced atomic layer deposition

Beteiligte:

Nam, T. (Autor:in) / Lee, C. W. (Autor:in) / Kim, H. J. (Autor:in) / Kim, H. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 295 ; 260-265

Erscheinungsdatum:

01.01.2014

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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