Self assembled micro masking effect in the fabrication of SiC nanopillars by ICP-RIE dry etching: Fid-Bau Portal

Self assembled micro masking effect in the fabrication of SiC nanopillars by ICP-RIE dry etching

Kathalingam, A. / Kim, M. R. / Chae, Y. S. / Sudhakar, S. / Mahalingam, T. / Rhee, J. K.

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Titel:

Self assembled micro masking effect in the fabrication of SiC nanopillars by ICP-RIE dry etching

Beteiligte:

Kathalingam, A. (Autor:in) / Kim, M. R. (Autor:in) / Chae, Y. S. (Autor:in) / Sudhakar, S. (Autor:in) / Mahalingam, T. (Autor:in) / Rhee, J. K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 3850-3855

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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