Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Properties of a-Si:H films deposited by RF magnetron sputtering at 95^oC

    Neue Suche nach: Girginoudi, D.
    Neue Suche nach: Tsiarapas, C.
    Neue Suche nach: Georgoulas, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Properties of a-Si:H films deposited by RF magnetron sputtering at 95^oC

    Neue Suche nach: Girginoudi, D.
    Neue Suche nach: Tsiarapas, C.
    Neue Suche nach: Georgoulas, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Properties of a-Si:H films deposited by RF magnetron sputtering at 95^oC

    Neue Suche nach: Girginoudi, D.
    Neue Suche nach: Tsiarapas, C.
    Neue Suche nach: Georgoulas, N.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Properties of a-Si:H films deposited by RF magnetron sputtering at 95^oC

    Beteiligte:

    Girginoudi, D. (Autor:in) / Tsiarapas, C. (Autor:in) / Georgoulas, N. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 3898-3903

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Structural properties of AlSn thin films deposited by magnetron sputtering

    De Rosa, H. / Cardus, G. / Broitman, E. et al. | British Library Online Contents | 2001

    Properties of ZnS Films Deposited by Radio Frequency Magnetron Sputtering

    Zhang, L. / Huang, J. / Yang, H.M. et al. | British Library Online Contents | 2014

    Properties of titanium thin films deposited by dc magnetron sputtering

    Jeyachandran, Y. L. / Karunagaran, B. / Narayandass, S. K. et al. | British Library Online Contents | 2006

    GaN films deposited by middle-frequency magnetron sputtering

    Zou, C. W. / Yin, M. L. / Li, M. et al. | British Library Online Contents | 2007

    Effects of sputtering power on mechanical properties of Cr films deposited by magnetron sputtering

    Kim, K. / Park, M. / Lee, W. et al. | British Library Online Contents | 2008

    Nach oben