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    Titel:

    Flattening of low temperature epitaxial Ge1-xSnx/Ge/Si(100) alloys via mass transport during post-growth annealing

    Beteiligte:

    Wang, W. (Autor:in) / Su, S. (Autor:in) / Zheng, J. (Autor:in) / Zhang, G. (Autor:in) / Xue, C. (Autor:in) / Zuo, Y. (Autor:in) / Cheng, B. (Autor:in) / Wang, Q. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 4468-4471

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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