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    Titel:

    Thermal stability and chemical bonding states of AlOxNy/Si gate stacks revealed by synchrotron radiation photoemission spectroscopy

    Beteiligte:

    He, G. (Autor:in) / Toyoda, S. (Autor:in) / Shimogaki, Y. (Autor:in) / Oshima, M. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 1638-1642

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2010

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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