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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Soft X-ray photoemission study of nitrogen diffusion in TiN/HfO:N gate stacks

    Beteiligte:

    Martinez, E. (Autor:in) / Gaumer, C. (Autor:in) / Lhostis, S. (Autor:in) / Licitra, C. (Autor:in) / Silly, M. (Autor:in) / Sirotti, F. (Autor:in) / Renault, O. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 2107-2112

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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