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    Titel:

    A magnetron sputtering technique to prepare a-C:H films: Effect of substrate bias

    Beteiligte:

    Wang, Y. (Autor:in) / Ye, Y. (Autor:in) / Li, H. (Autor:in) / Ji, L. (Autor:in) / Chen, J. (Autor:in) / Zhou, H. (Autor:in)

    Erschienen in:

    APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 1990-1995

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2011

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0169-4332

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  621.35

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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