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Fabrication of silicon wafer with ultra low reflectance by chemical etching method

Cao, Y. / Liu, A. / Li, H. / Liu, Y. / Qiao, F. / Hu, Z. / Sang, Y.

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Titel:

Fabrication of silicon wafer with ultra low reflectance by chemical etching method

Beteiligte:

Cao, Y. (Autor:in) / Liu, A. (Autor:in) / Li, H. (Autor:in) / Liu, Y. (Autor:in) / Qiao, F. (Autor:in) / Hu, Z. (Autor:in) / Sang, Y. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 7411-7414

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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