Fabrication of bifacial wafer-scale silicon nanowire arrays with ultra-high aspect ratio through controllable metal-assisted chemical etching: Fid-Bau Portal

Fabrication of bifacial wafer-scale silicon nanowire arrays with ultra-high aspect ratio through controllable metal-assisted chemical etching

Liu, Y. / Sun, W. / Jiang, Y. / Zhao, X. Z.

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Titel:

Fabrication of bifacial wafer-scale silicon nanowire arrays with ultra-high aspect ratio through controllable metal-assisted chemical etching

Beteiligte:

Liu, Y. (Autor:in) / Sun, W. (Autor:in) / Jiang, Y. (Autor:in) / Zhao, X. Z. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 139 ; 437-442

Erscheinungsdatum:

01.01.2015

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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