Nanoscale planar faulting in nanocrystalline Ni-W thin films: Grain growth, segregation, and residual stress: Fid-Bau Portal

Nanoscale planar faulting in nanocrystalline Ni-W thin films: Grain growth, segregation, and residual stress

Welzel, U. / Kummel, J. / Bischoff, E. / Kurz, S. / Mittemeijer, E.J.

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Titel:

Nanoscale planar faulting in nanocrystalline Ni-W thin films: Grain growth, segregation, and residual stress

Beteiligte:

Welzel, U. (Autor:in) / Kummel, J. (Autor:in) / Bischoff, E. (Autor:in) / Kurz, S. (Autor:in) / Mittemeijer, E.J. (Autor:in)

Erschienen in:

JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH -PITTSBURGH THEN WARRENDALE- ; 26 ; 2558-2573

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

16 pages

ISSN:

0884-2914

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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