A Study on the Characteristics of the Polycrystalline Silicon Annealed by the SHG Nd:YAG Laser: Fid-Bau Portal

A Study on the Characteristics of the Polycrystalline Silicon Annealed by the SHG Nd:YAG Laser

Kim, Y.C. / Kim, D.W. / Kim, H.S. / Ahn, S.J. / Ahn, S.

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Titel:

A Study on the Characteristics of the Polycrystalline Silicon Annealed by the SHG Nd:YAG Laser

Beteiligte:

Kim, Y.C. (Autor:in) / Kim, D.W. (Autor:in) / Kim, H.S. (Autor:in) / Ahn, S.J. (Autor:in) / Ahn, S. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS SCIENCE FORUM ; 695 ; 9-12

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0255-5476

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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