Hydride vapor phase epitaxy of strain-reduced GaN film on nano-island template produced using self-assembled CsCl nanospheres: Fid-Bau Portal

Hydride vapor phase epitaxy of strain-reduced GaN film on nano-island template produced using self-assembled CsCl nanospheres

Wei, T. B. / Chen, Y. / Hu, Q. / Yang, J. K. / Huo, Z. Q. / Duan, R. F. / Wang, J. X. / Zeng, Y. P. / Li, J. M. / Liao, Y. X.

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Wei, T. B. / Chen, Y. / Hu, Q. / Yang, J. K. / Huo, Z. Q. / Duan, R. F. / Wang, J. X. / Zeng, Y. P. / Li, J. M. / Liao, Y. X.

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Titel:

Hydride vapor phase epitaxy of strain-reduced GaN film on nano-island template produced using self-assembled CsCl nanospheres

Beteiligte:

Wei, T. B. (Autor:in) / Chen, Y. (Autor:in) / Hu, Q. (Autor:in) / Yang, J. K. (Autor:in) / Huo, Z. Q. (Autor:in) / Duan, R. F. (Autor:in) / Wang, J. X. (Autor:in) / Zeng, Y. P. (Autor:in) / Li, J. M. (Autor:in) / Liao, Y. X. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 68 ; 327-330

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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