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    Dokumentinformationen
    Titel:

    Chiral Nematic Fluids as Masks for Lithography

    Beteiligte:

    Jeong, H. S. (Autor:in) / Kim, Y. H. (Autor:in) / Lee, J. S. (Autor:in) / Kim, J. H. (Autor:in) / Srinivasarao, M. (Autor:in) / Jung, H. T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 24 ; 381-384

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    4 pages

    ISSN:

    0935-9648

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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