Stability of La2O3 and GeO2 passivated Ge surfaces during ALD of ZrO2 high-k dielectric: Fid-Bau Portal

Stability of La2O3 and GeO2 passivated Ge surfaces during ALD of ZrO2 high-k dielectric

Bethge, O. / Henkel, C. / Abermann, S. / Pozzovivo, G. / Stoeger-Pollach, M. / Werner, W. S. / Smoliner, J. / Bertagnolli, E.

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Titel:

Stability of La2O3 and GeO2 passivated Ge surfaces during ALD of ZrO2 high-k dielectric

Beteiligte:

Bethge, O. (Autor:in) / Henkel, C. (Autor:in) / Abermann, S. (Autor:in) / Pozzovivo, G. (Autor:in) / Stoeger-Pollach, M. (Autor:in) / Werner, W. S. (Autor:in) / Smoliner, J. (Autor:in) / Bertagnolli, E. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 258 ; 3444-3449

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

6 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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