Structure and hardness of a-C:H films prepared by middle frequency plasma chemical vapor deposition: Fid-Bau Portal

Structure and hardness of a-C:H films prepared by middle frequency plasma chemical vapor deposition

Guo, G. / Tang, G. / Wang, Y. / Ma, X. / Sun, M. / Wang, L. / Yukimura, K.

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Titel:

Structure and hardness of a-C:H films prepared by middle frequency plasma chemical vapor deposition

Beteiligte:

Guo, G. (Autor:in) / Tang, G. (Autor:in) / Wang, Y. (Autor:in) / Ma, X. (Autor:in) / Sun, M. (Autor:in) / Wang, L. (Autor:in) / Yukimura, K. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 257 ; 4738-4742

Erscheinungsdatum:

01.01.2011

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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