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    Titel:

    The effect of atomic density gradient in electromigration

    Beteiligte:

    Zhang, Y. (Autor:in) / Liu, Y. (Autor:in) / Liang, L. (Autor:in) / Fan, X. (Autor:in)

    Erschienen in:

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MATERIALS AND STRUCTURAL INTEGRITY ; 6 ; 36-53

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2012

    Format / Umfang:

    18 pages

    ISSN:

    1745-0055

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.112

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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