Ultra-violet light assisted reactive RF magnetron sputtering deposition of AlN thin films at room temperature: Fid-Bau Portal

Ultra-violet light assisted reactive RF magnetron sputtering deposition of AlN thin films at room temperature

Feng, B. / Dong, S. / Jin, H. / Zhou, J. / Yang, Y. / Ren, T. / Luo, J. / Wang, D.

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Titel:

Ultra-violet light assisted reactive RF magnetron sputtering deposition of AlN thin films at room temperature

Beteiligte:

Feng, B. (Autor:in) / Dong, S. (Autor:in) / Jin, H. (Autor:in) / Zhou, J. (Autor:in) / Yang, Y. (Autor:in) / Ren, T. (Autor:in) / Luo, J. (Autor:in) / Wang, D. (Autor:in)

Erschienen in:

MATERIALS LETTERS ; 79 ; 25-28

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

4 pages

ISSN:

0167-577X

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.1105 / 530

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