Oxygen plasma power dependence on ZnO grown on porous silicon substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy: Fid-Bau Portal

Oxygen plasma power dependence on ZnO grown on porous silicon substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy

Nam, G. / Kim, M.S. / Kim, D.Y. / Yim, K.G. / Kim, S. / Kim, S.-O. / Lee, D.-Y. / Leem, J.-Y.

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Titel:

Oxygen plasma power dependence on ZnO grown on porous silicon substrates by plasma-assisted molecular beam epitaxy

Beteiligte:

Nam, G. (Autor:in) / Kim, M.S. (Autor:in) / Kim, D.Y. (Autor:in) / Yim, K.G. (Autor:in) / Kim, S. (Autor:in) / Kim, S.-O. (Autor:in) / Lee, D.-Y. (Autor:in) / Leem, J.-Y. (Autor:in) / Boo, J.-H. / Ahn, H.

Erschienen in:

Proceedings of the IFFM2011 (2011 International Forum on Functional Materials) and AFM-2 (2nd Special Symposium on Advances in Functional Materials) Jeju island, Korea 28-31 July 2011 ; 2879-2883

MATERIALS RESEARCH BULLETIN ; 47

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0025-5408

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11 / 620

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