Patterning: High Aspect Ratio Sub-15 nm Silicon Trenches From Block Copolymer Templates (Adv. Mater. 42/2012): Fid-Bau Portal

Patterning: High Aspect Ratio Sub-15 nm Silicon Trenches From Block Copolymer Templates (Adv. Mater. 42/2012)

Gu, X. / Liu, Z. / Gunkel, I. / Chourou, S. T. / Hong, S. W. / Olynick, D. L. / Russell, T. P.

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Titel:

Patterning: High Aspect Ratio Sub-15 nm Silicon Trenches From Block Copolymer Templates (Adv. Mater. 42/2012)

Beteiligte:

Gu, X. (Autor:in) / Liu, Z. (Autor:in) / Gunkel, I. (Autor:in) / Chourou, S. T. (Autor:in) / Hong, S. W. (Autor:in) / Olynick, D. L. (Autor:in) / Russell, T. P. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 24 ; 5687-5687

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

1 pages

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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