Lithography: Resolution Limit in Plasmonic Lithography for Practical Applications beyond 2x-nm Half Pitch (Adv. Mater. 44/2012): Fid-Bau Portal

Lithography: Resolution Limit in Plasmonic Lithography for Practical Applications beyond 2x-nm Half Pitch (Adv. Mater. 44/2012)

Kim, S. / Jung, H. / Kim, Y. / Jang, J. / Hahn, J. W.

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Titel:

Lithography: Resolution Limit in Plasmonic Lithography for Practical Applications beyond 2x-nm Half Pitch (Adv. Mater. 44/2012)

Beteiligte:

Kim, S. (Autor:in) / Jung, H. (Autor:in) / Kim, Y. (Autor:in) / Jang, J. (Autor:in) / Hahn, J. W. (Autor:in)

Erschienen in:

ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 24 ; OP273-OP273

Erscheinungsdatum:

01.01.2012

Format / Umfang:

OP273-OP273

ISSN:

0935-9648

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 620.11

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