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    Titel:

    CW-diode laser crystallization of sputtered amorphous silicon on glass, SiNx, and SiO2 intermediate layers

    Beteiligte:

    Schmidl, G. (Autor:in) / Andrä, G. (Autor:in) / Bergmann, J. (Autor:in) / Gawlik, A. (Autor:in) / Höger, I. (Autor:in) / Anders, S. (Autor:in) / Schmidl, F. (Autor:in) / Tympel, V. (Autor:in) / Falk, F. (Autor:in)

    Erschienen in:

    JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE ; 48 ; 4177-4182

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    6 pages

    ISSN:

    0022-2461

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

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