Laser generated Ge ions accelerated by additional electrostatic field for implantation technology: Fid-Bau Portal

Laser generated Ge ions accelerated by additional electrostatic field for implantation technology

Rosinski, M. / Gasior, P. / Fazio, E. / Ando, L. / Giuffrida, L. / Torrisi, L. / Parys, P. / Mezzasalma, A. M. / Wolowski, J.

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Titel:

Laser generated Ge ions accelerated by additional electrostatic field for implantation technology

Beteiligte:

Rosinski, M. (Autor:in) / Gasior, P. (Autor:in) / Fazio, E. (Autor:in) / Ando, L. (Autor:in) / Giuffrida, L. (Autor:in) / Torrisi, L. (Autor:in) / Parys, P. (Autor:in) / Mezzasalma, A. M. (Autor:in) / Wolowski, J. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 272 ; 109-113

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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