Characterization of gadolinium oxide thin films with CF4 plasma treatment for resistive switching memory applications: Fid-Bau Portal

Characterization of gadolinium oxide thin films with CF4 plasma treatment for resistive switching memory applications

Wang, J. C. / Ye, Y. R. / Lai, C. S. / Lin, C. T. / Lu, H. C. / Wu, C. I. / Wang, P. S.

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Titel:

Characterization of gadolinium oxide thin films with CF4 plasma treatment for resistive switching memory applications

Beteiligte:

Wang, J. C. (Autor:in) / Ye, Y. R. (Autor:in) / Lai, C. S. (Autor:in) / Lin, C. T. (Autor:in) / Lu, H. C. (Autor:in) / Wu, C. I. (Autor:in) / Wang, P. S. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 276 ; 497-501

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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