Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Effect of Ar Plasma Treatment on Resistive Switching of ZnO Thin Films

    Neue Suche nach: Fu, B.
    Neue Suche nach: Zhu Ge, F.
    Neue Suche nach: Liu, Z.-m.
    Neue Suche nach: Luo, H.
    Neue Suche nach: Liang, L.-y.
    Neue Suche nach: Gao, J.-h.
    Neue Suche nach: Cao, H.-t.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Effect of Ar Plasma Treatment on Resistive Switching of ZnO Thin Films

    Neue Suche nach: Fu, B.
    Neue Suche nach: Zhu Ge, F.
    Neue Suche nach: Liu, Z.-m.
    Neue Suche nach: Luo, H.
    Neue Suche nach: Liang, L.-y.
    Neue Suche nach: Gao, J.-h.
    Neue Suche nach: Cao, H.-t.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Effect of Ar Plasma Treatment on Resistive Switching of ZnO Thin Films

    Neue Suche nach: Fu, B.
    Neue Suche nach: Zhu Ge, F.
    Neue Suche nach: Liu, Z.-m.
    Neue Suche nach: Luo, H.
    Neue Suche nach: Liang, L.-y.
    Neue Suche nach: Gao, J.-h.
    Neue Suche nach: Cao, H.-t.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Effect of Ar Plasma Treatment on Resistive Switching of ZnO Thin Films

    Beteiligte:

    Fu, B. (Autor:in) / Zhu Ge, F. (Autor:in) / Liu, Z.-m. (Autor:in) / Luo, H. (Autor:in) / Liang, L.-y. (Autor:in) / Gao, J.-h. (Autor:in) / Cao, H.-t. (Autor:in)

    Erschienen in:

    MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING -HANGZHOU- ; 32 ; 922-924

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2014

    Format / Umfang:

    3 pages

    ISSN:

    1673-2812

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Unbekannt

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    Resistive Switching Phenomena in LixCoO2 Thin Films

    Moradpour, A. / Schneegans, O. / Franger, S. et al. | British Library Online Contents | 2011

    Characterization of gadolinium oxide thin films with CF4 plasma treatment for resistive switching memory applications

    Wang, J. C. / Ye, Y. R. / Lai, C. S. et al. | British Library Online Contents | 2013

    Transport properties of Ar^+ irradiated resistive switching BiFeO3 thin films

    Jin, L. / Shuai, Y. / Ou, X. et al. | British Library Online Contents | 2015

    Effect of hydrogen annealing on the resistive switching characteristics of BiMnO3 thin films

    Ahn, Yoonho / Son, Jong Yeog | British Library Online Contents | 2017

    Resistive switching phenomena in thin films: Materials, devices, and applications

    Strukov, D.B. / Kohlstedt, H. | British Library Online Contents | 2012

    Nach oben