Fachinformationsdienst BAUdigital

Eine Plattform für die Wissenschaft: Bauingenieurwesen, Architektur und Urbanistik

    Facile Encapsulation of Oxide based Thin Film Transistors by Atomic Layer Deposition based on Ozone

    Neue Suche nach: Fakhri, M.
    Neue Suche nach: Babin, N.
    Neue Suche nach: Behrendt, A.
    Neue Suche nach: Jakob, T.
    Neue Suche nach: Grrn, P.
    Neue Suche nach: Riedl, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Facile Encapsulation of Oxide based Thin Film Transistors by Atomic Layer Deposition based on Ozone

    Neue Suche nach: Fakhri, M.
    Neue Suche nach: Babin, N.
    Neue Suche nach: Behrendt, A.
    Neue Suche nach: Jakob, T.
    Neue Suche nach: Grrn, P.
    Neue Suche nach: Riedl, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Facile Encapsulation of Oxide based Thin Film Transistors by Atomic Layer Deposition based on Ozone

    Neue Suche nach: Fakhri, M.
    Neue Suche nach: Babin, N.
    Neue Suche nach: Behrendt, A.
    Neue Suche nach: Jakob, T.
    Neue Suche nach: Grrn, P.
    Neue Suche nach: Riedl, T.

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Zugriff

    Zugriff über TIB
    Verfügbarkeit in meiner Bibliothek prüfen
    Bestellung bei Subito €

    Seitennavigation

    Dokumentinformationen
    Ähnliche Titel

    Exportieren, teilen und zitieren

    Dokumentinformationen
    Titel:

    Facile Encapsulation of Oxide based Thin Film Transistors by Atomic Layer Deposition based on Ozone

    Beteiligte:

    Fakhri, M. (Autor:in) / Babin, N. (Autor:in) / Behrendt, A. (Autor:in) / Jakob, T. (Autor:in) / Grrn, P. (Autor:in) / Riedl, T. (Autor:in)

    Erschienen in:

    ADVANCED MATERIALS -DEERFIELD BEACH THEN WEINHEIM- ; 25 ; 2821-2825

    Erscheinungsdatum:

    01.01.2013

    Format / Umfang:

    5 pages

    ISSN:

    0935-9648

    Medientyp:

    Aufsatz (Zeitschrift)

    Format:

    Print

    Sprache:

    Englisch

    Klassifikation:

    DDC:  620.11

    © Metadata Copyright the British Library Board and other contributors. All rights reserved.

    Ähnliche Titel

    PTFE encapsulation for pentacene based organic thin film transistors

    Pannemann, C. / Diekmann, T. / Hilleringmann, U. et al. | British Library Online Contents | 2007

    Physical/chemical properties of tin oxide thin film transistors prepared using plasma-enhanced atomic layer deposition

    Lee, B.K. / Jung, E. / Kim, S.H. et al. | British Library Online Contents | 2012

    Enhanced electrical properties of dual-layer channel ZnO thin film transistors prepared by atomic layer deposition

    Li, Huijin / Han, Dedong / Dong, Junchen et al. | British Library Online Contents | 2018

    Enhanced electrical properties of dual-layer channel ZnO thin film transistors prepared by atomic layer deposition

    Li, Huijin / Han, Dedong / Dong, Junchen et al. | British Library Online Contents | 2018

    Surface-Induced Self-Encapsulation of Polymer Thin-Film Transistors

    Arias, A. C. / Endicott, F. / Street, R. A. | British Library Online Contents | 2006

    Nach oben