Effect of aluminum plasma parameters on the physical properties of Ti-Al-N thin films deposited by reactive crossed beam pulsed laser deposition: Fid-Bau Portal

Effect of aluminum plasma parameters on the physical properties of Ti-Al-N thin films deposited by reactive crossed beam pulsed laser deposition

Escobar-Alarcon, L. / Solis-Casados, D. A. / Romero, S. / Fernandez, M. / Perez-Alvarez, J. / Haro-Poniatowski, E.

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Titel:

Effect of aluminum plasma parameters on the physical properties of Ti-Al-N thin films deposited by reactive crossed beam pulsed laser deposition

Beteiligte:

Escobar-Alarcon, L. (Autor:in) / Solis-Casados, D. A. (Autor:in) / Romero, S. (Autor:in) / Fernandez, M. (Autor:in) / Perez-Alvarez, J. (Autor:in) / Haro-Poniatowski, E. (Autor:in)

Erschienen in:

APPLIED SURFACE SCIENCE ; 283 ; 808-812

Erscheinungsdatum:

01.01.2013

Format / Umfang:

5 pages

ISSN:

0169-4332

Medientyp:

Aufsatz (Zeitschrift)

Format:

Sprache:

Englisch

Klassifikation:

DDC: 621.35

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